全書依最新法規整編內容，共分為四大篇：智慧財產權法導論、專利法、著作權法、商標法。本次改版重點包括：一、依據民國100年修正公布之最新專利法及商標法，重新撰寫專利法篇及商標法篇之內容；二、增補著作權篇的爭議探討；三、於各篇章中增列100年及99年度國內大學研究所智慧財產權相關考題，以及檢察事務官、專利商標審查人員、高考三級智慧財產行政與專利師特考之考題，並於題後附有答題重點提示予讀者參考；四、書末分別收錄100年專利法修正條文對照表與商標

法修正條文對照表等，及歷屆試題暨擬答索引，以便於讀者閱讀與查詢。本書重點內容如下：

一、綱要表解
各章中以「綱要表解」作為研讀前的預習與研讀後之複習提示，明確而清晰的樹狀圖解法，綱舉目張的點出各章節重點，把握得分要領。

二、重點析論
本書蒐集整理相關實務見解，輔以問題及圖表，使繁雜艱深的條文內容，不再艱澀難懂。

三、觀念釐清
以圖表對照解說方式，針對讀者容易混淆的觀念加強釐清及建議，讓讀者能在基本觀念奠定後，能進一步深入探討其他爭議問題。

四、精要論述
本書於重點章節加入「精要論述」，探討學說爭議及法條修正對時事的影響趨勢，使讀者能即時掌握修法重點及意涵。

五、實例演練
各章末附有實例演練題，收錄研究所及國考相關試題，並於題後附有答題重點提示，提升解題技巧。

六、歷屆試題
完整蒐錄最新年度之檢察事務官及專利商標審查人員考試試題，並於各題中索引相關章節，使讀者遇綜合性考題時，能打破藩籬，將相關條文互相串聯。